Применятся для травления материалов полупроводниковой промышленности (кремниевых и кварцевых подложек).

HF используется в технологии изготовления интегральных схем для локального окисления канало-ограничительной области.
Характеристики получаемого продукта:
|
№ |
Наименование показателя |
Исходное сырье |
Результаты испытаний |
||||
| ТУ 2612-028-6988698-2014 | Образец 1 | Образец 2 | |||||
|
1 |
Массовая доля фтористоводородной кислоты (HF), % |
46-49 |
49 |
49 |
|||
|
Массовая доля примесей, не более: |
|||||||
|
% |
ppm | % | ppm | % |
ppm |
||
|
2 |
Алюминий (Al) |
3 · 10-6 |
0,03 | 7 · 10-8 | 0,0007 | 2 · 10-8 |
0,0002 |
|
3 |
Барий (Ba) |
2 · 10-6 |
0,02 | 1 · 10-8 | 0,0001 | 0 |
0,0000 |
|
4 |
Бор (B) |
3 · 10-7 |
0,003 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
5 |
Висмут (Bi) |
2 · 10-6 |
0,02 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
6 |
Железо (Fe) |
2 · 10-6 |
0,02 | 1,5 · 10-7 | 0,0015 | 0 |
0,0000 |
|
7 |
Золото (Au) |
1 · 10-7 |
0,001 | — | — | — |
— |
|
8 |
Калий (K) |
1 · 10-5 |
0,1 | 1,9 · 10-7 | 0,0019 | 1,3 · 10-7 |
0,0013 |
|
9 |
Кальций (Ca) |
5 · 10-6 |
0,05 | 8,9 · 10-7 | 0,0089 | 1,21 · 10-6 |
0,0121 |
|
10 |
Кобальт (Co) |
5 · 10-7 |
0,005 | 1 · 10-8 | 0,0001 | 1 · 10-8 | 0,0001 |
|
11 |
Кремний (Si) |
1 · 10-3 |
10 | 1 · 10-7 | 0,0010 | 6 · 10-8 |
0,0006 |
|
12 |
Магний (Mg) |
1 · 10-6 |
0,01 | 1,7 · 10-7 | 0,0017 | 1,8 · 10-7 |
0,0018 |
|
13 |
Марганец (Mn) |
1 · 10-6 |
0,01 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
14 |
Медь (Cu) |
2 · 10-7 |
0,002 | 0 | 0,0000 | 1 · 10-8 |
0,0001 |
|
15 |
Мышьяк (As) |
5 · 10-6 |
0,05 | 8 · 10-8 | 0,0008 | 0 |
0,0000 |
|
16 |
Натрий (Na) |
1 · 10-5 |
0,1 | 1 · 10-7 | 0,0010 | 9 · 10-8 |
0,0009 |
|
17 |
Никель (Ni) |
3 · 10-7 |
0,003 | 3 · 10-8 | 0,0003 | 0 |
0,0000 |
|
18 |
Свинец (Pb) |
5 · 10-7 |
0,005 | 0 | 0,0000 | 6 · 10-8 |
0,0006 |
|
19 |
Серебро (Ag) |
1 · 10-7 |
0,001 | 1 · 10-8 | 0,0001 | 0 |
0,0000 |
|
20 |
Сурьма (Sb) |
5 · 10-7 |
0,005 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
21 |
Титан (Ti) |
5 · 10-7 |
0,005 |
6 · 10-8 | 0,0006 | 2 · 10-8 |
0,0002 |
|
22 |
Фосфор (P) |
3 · 10-6 |
0,03 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
23 |
Хром (Cr) |
3 · 10-7 |
0,003 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
24 |
Цинк (Zn) |
1 · 10-6 |
0,01 | 7 · 10-8 | 0,0007 | 1,3 · 10—7 |
0,0013 |
| 25 |
Общая сера (S) |
1 · 10-4 | 1,0 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
|
Чистота основного продукта (HF) / Purity of the main product (HF) : |
99,998 % | 99,999998 % |
99,999998 % |
||||
НПК Спектр предлагает комплект оборудования для очистки исходной кислоты HF до значений 99,999998 %
Установка предназначена для очистки и получения монокристаллов тугоплавких металлов молибдена (Мо), ниобия (Nb), вольфрама (W), тантала (Та) и сплавов на их основе в виде цилиндрических прутков методом бестигельной зонной
Установка предназначена для получения высокочистой фракции диоксида кремния SiO2 чистотой до 99,9995 %. Высокочистый кварц используется для получения материалов и изделий для микроэлектронной промышленности.
Из металлических гранул методом 3D печати или же газостатического прессования получают детали для нужд медицины (импланты, медицинскую проволоку, хирургические инструменты), для авиации (диски, валы, корпуса, изделия сложной формы.)