Применятся для травления материалов полупроводниковой промышленности (кремниевых и кварцевых подложек).
HF используется в технологии изготовления интегральных схем для локального окисления канало-ограничительной области.
Характеристики получаемого продукта:
№ |
Наименование показателя |
Исходное сырье |
Результаты испытаний |
||||
ТУ 2612-028-6988698-2014 | Образец 1 | Образец 2 | |||||
1 |
Массовая доля фтористоводородной кислоты (HF), % |
46-49 |
49 |
49 |
|||
Массовая доля примесей, не более: |
|||||||
% |
ppm | % | ppm | % |
ppm |
||
2 |
Алюминий (Al) |
3 · 10-6 |
0,03 | 7 · 10-8 | 0,0007 | 2 · 10-8 |
0,0002 |
3 |
Барий (Ba) |
2 · 10-6 |
0,02 | 1 · 10-8 | 0,0001 | 0 |
0,0000 |
4 |
Бор (B) |
3 · 10-7 |
0,003 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
5 |
Висмут (Bi) |
2 · 10-6 |
0,02 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
6 |
Железо (Fe) |
2 · 10-6 |
0,02 | 1,5 · 10-7 | 0,0015 | 0 |
0,0000 |
7 |
Золото (Au) |
1 · 10-7 |
0,001 | — | — | — |
— |
8 |
Калий (K) |
1 · 10-5 |
0,1 | 1,9 · 10-7 | 0,0019 | 1,3 · 10-7 |
0,0013 |
9 |
Кальций (Ca) |
5 · 10-6 |
0,05 | 8,9 · 10-7 | 0,0089 | 1,21 · 10-6 |
0,0121 |
10 |
Кобальт (Co) |
5 · 10-7 |
0,005 | 1 · 10-8 | 0,0001 | 1 · 10-8 | 0,0001 |
11 |
Кремний (Si) |
1 · 10-3 |
10 | 1 · 10-7 | 0,0010 | 6 · 10-8 |
0,0006 |
12 |
Магний (Mg) |
1 · 10-6 |
0,01 | 1,7 · 10-7 | 0,0017 | 1,8 · 10-7 |
0,0018 |
13 |
Марганец (Mn) |
1 · 10-6 |
0,01 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
14 |
Медь (Cu) |
2 · 10-7 |
0,002 | 0 | 0,0000 | 1 · 10-8 |
0,0001 |
15 |
Мышьяк (As) |
5 · 10-6 |
0,05 | 8 · 10-8 | 0,0008 | 0 |
0,0000 |
16 |
Натрий (Na) |
1 · 10-5 |
0,1 | 1 · 10-7 | 0,0010 | 9 · 10-8 |
0,0009 |
17 |
Никель (Ni) |
3 · 10-7 |
0,003 | 3 · 10-8 | 0,0003 | 0 |
0,0000 |
18 |
Свинец (Pb) |
5 · 10-7 |
0,005 | 0 | 0,0000 | 6 · 10-8 |
0,0006 |
19 |
Серебро (Ag) |
1 · 10-7 |
0,001 | 1 · 10-8 | 0,0001 | 0 |
0,0000 |
20 |
Сурьма (Sb) |
5 · 10-7 |
0,005 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
21 |
Титан (Ti) |
5 · 10-7 |
0,005 |
6 · 10-8 | 0,0006 | 2 · 10-8 |
0,0002 |
22 |
Фосфор (P) |
3 · 10-6 |
0,03 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
23 |
Хром (Cr) |
3 · 10-7 |
0,003 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
24 |
Цинк (Zn) |
1 · 10-6 |
0,01 | 7 · 10-8 | 0,0007 | 1,3 · 10—7 |
0,0013 |
25 |
Общая сера (S) |
1 · 10-4 | 1,0 | 0 | 0,0000 | 0 |
0,0000 |
Чистота основного продукта (HF) / Purity of the main product (HF) : |
99,998 % | 99,999998 % |
99,999998 % |
НПК Спектр предлагает комплект оборудования для очистки исходной кислоты HF до значений 99,999998 %
Используется для синтеза высокочистого поликристаллического карбида кремния в электронной и электротехнической промышленности.
Установка предназначена для очистки и получения монокристаллов тугоплавких металлов молибдена (Мо), ниобия (Nb), вольфрама (W), тантала (Та) и сплавов на их основе в виде цилиндрических прутков методом бестигельной зонной
Высококачественное сырье для синтеза монокристаллов карбида кремния модификаций 4H-SIC и 6H-SIC, применяемых в электронных приборах.