Используется для синтеза высокочистого поликристаллического карбида кремния в электронной и электротехнической промышленности.

Диоксид кремния используется для синтеза высокочистого поликристаллического карбида кремния.
Характеристики получаемого порошка диоксида кремния:
| Содержание примесей, массовая доля в ppm |
Маркировка образца |
|
|
Образец №1 |
Образец №2 |
|
| Al |
<0,1 |
0,1 |
| B |
0,04 |
0,03 |
| Ba |
0,2 |
0,2 |
| Ca |
0,1 |
0,1 |
| Co |
0,01 |
<0,01 |
| Cr |
0,01 |
0,04 |
| Cu |
<0,01 |
0,03 |
| Fe |
<0,1 |
<0,1 |
| K |
<0,1 |
<0,1 |
| Li |
0,2 |
0,3 |
| Mg |
<0,1 |
<0,1 |
| Mn |
<0,01 |
<0,01 |
| Na |
<0,1 |
<0,1 |
| Ni |
<0,01 |
<0,01 |
| Sr |
<0,01 |
<0,01 |
| Ti |
<0,1 |
<0,1 |
НПК Спектр предлагает промышленное оборудование для синтеза высокочистого кварцевого концентрата.
В течение последних десятилетий для выращивания монокристаллов сапфира в основном применяют три метода: горизонтальная направленная кристаллизация (ГНК), Киропулоса и Степанова. Все методы основаны на выращивании кристаллов из расплавов.
Применятся для травления материалов полупроводниковой промышленности (кремниевых и кварцевых подложек).
Из металлических гранул методом 3D печати или же газостатического прессования получают детали для нужд медицины (импланты, медицинскую проволоку, хирургические инструменты), для авиации (диски, валы, корпуса, изделия сложной формы.)